Chemical Vapoure Deposition (Chemische Gasphasen Abscheidung): Eine gasförmige Ausgangsverbindung wird mittels einer chemischen Reaktion auf einem Substrat abgeschieden. Varianten sind APCVD, LPCVD, HFCVD, ALD, PECVD oder MOCVD. Bei Letzteren werden Flüssig-Precursor eingesetzt, welche mit einem Verdampfer oder Bubbler in die Gasphase gebracht werden müssen.
Typische Anwendungen sind dabei die Erzeugung von Diamantschichten, Siliziumnitrid/ -oxidschichten. Herstellung von Metall/Silizium-Hybriden. Härten von Werkzeugen, Flachglas, Solar, Halbleiter, Dioden.