CVD-Prozesse

Chemical Vapoure Deposition (Chemische Gasphasen Abscheidung): Eine gasförmige Ausgangsverbindung wird mittels einer chemischen Reaktion auf einem Substrat abgeschieden. Varianten sind APCVD, LPCVD, HFCVD, ALD, PECVD oder MOCVD. Bei Letzteren werden Flüssig-Precursor eingesetzt, welche mit einem Verdampfer oder Bubbler in die Gasphase gebracht werden müssen.
Typische Anwendungen sind dabei die Erzeugung von Diamantschichten, Siliziumnitrid/ -oxidschichten. Herstellung von Metall/Silizium-Hybriden. Härten von Werkzeugen, Flachglas, Solar, Halbleiter, Dioden.

Vorteile für Ihre Anwendung

  • Für alle Gasarten spezielle, geeignete Geräte und Dichtungen
  • Exakte Kalibrierung auf die benötigte Flussmenge
  • Hinterlegung von bis zu 8 Kalibrierkurven
  • Verfügbar in diversen Schutzarten und –klassen
  • Flüssigdosierung von Precursoren
  • Druckregelung
  • Verdampfer mit und ohne Trägergas
  • Standard- AnalogsignaleBus-Systeme wie z. Bsp. Profi-Bus
  • Vorort Bedienung

Typischer Einsatz

  • Diverse Produktionsanlagen weltweit
  • Grundlagenforschung bei Herstellern und an Universitäten

Wagner Mess- und Regeltechnik GmbH
Otto-Scheuerpflug-Straße 6 • 630773 Offenbach

Tel.: 069 - 82 97 76-0 • Fax: 069 - 82 97 79-10
info@wagner-msr.de • www.wagner-msr.de

  Stand: 12.2019

© Wagner Mess- und Regeltechnik GmbH

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