Dotierung von Siliziumwafern

Die Vielfalt der möglichen Dotierungsverfahren, wie z.B. Ionenimplantation, Neutronen-Transmutationsdotierung und weitere, erfordert genaue und hochreine Massedurchflussregler für die Dotierung.  Die Verwendung von hochreinen Gasen,  wie z.B. Phosphor, Gallium und Arsen erfordert die Auswahl des korrekten Dichtungsmaterials oder sogar metallisch gedichtete Geräte. Bei der Auslegung der passenden Geräte ist nicht nur theoretische sondern auch praktische Erfahrung gefragt.

Vorteile für Ihre Anwendung

  • Hohe Messgenauigkeit
  • Schnelle Messung/Regelung
  • Metallisch gedichtete Geräte
  • Standard- und Analogsignale
  • Bus-Systeme wie z.B. Profi-Bus, EtherCAT, DeviceNet und andere

Typischer Einsatz

  • Anlagen zur Wafer-Dotierung weltweit
  • Systemlieferanten
  • Universitäten und Forschungseinrichtungen in der Grundlagenforschung

Wagner Mess- und Regeltechnik GmbH
Otto-Scheuerpflug-Straße 6 • 630773 Offenbach

Tel.: 069 - 82 97 76-0 • Fax: 069 - 82 97 79-10
info@wagner-msr.de • www.wagner-msr.de

  Stand: 12.2019

© Wagner Mess- und Regeltechnik GmbH

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