Herstellung von Siliziumwafern

Die bei der Herstellung von Siliziumwafern verwendeten Stoffe, wie z. Bsp. Si, HCL, H2, können zuverlässig durch Massedurchflussregler dosiert werden. Auch bei den weiteren Behandlungsschritten mittels CVD zum Aufbringen von Aluminium, Wolfram, Kupfer, Silizium, und Si3N4 und beim der Herstellung von Polykristalinem Silizium durch thermische Oxydation über SiO2, egal ob Trocken- (Si + O2) oder Nassprozess (Si + 2 H2O), werden Massedurchflussregler eingesetzt. Aufgrund der verwendeten, leichtentzündlichen Stoffe, müssen die verwendeten Geräte oft erhöhten Sicherheitsvorschriften, wie z. Bsp. Ex Schutz genügen.

Vorteile für Ihre Anwendung

  • Ex- geschützte Geräte
  • Standard Edelstahl 1.4404, andere, wie z.B. Monel, Tantal, Hastelloy C, möglich
  • Reinraumfertigung
  • Standard- Analogsignale
  • Bus-Systeme wie z. Bsp. Profi-Bus, EtherCAT, DeviceNet und andere

Typischer Einsatz

  • Anlagen zur Waferherstellung weltweit
  • Systemlieferanten
  • Universitäten und Forschungseinrichtungen in der Grundlagenforschung

Wagner Mess- und Regeltechnik GmbH
Otto-Scheuerpflug-Straße 6 • 630773 Offenbach

Tel.: 069 - 82 97 76-0 • Fax: 069 - 82 97 79-10
info@wagner-msr.de • www.wagner-msr.de

  Stand: 10.2022

© Wagner Mess- und Regeltechnik GmbH

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